안녕하십니까, 반도체 공정에 대하여 공부 중입니다. 

 

공부 시 몇 가지 질문 사항이 있어서 문의 드립니다.

 

1. Depoition 공정과 같은 Process 공정 시 SiH4 + N2O(O2) 등의 gas 사용하여 바로 공정을 진행하는데, 

   Remote Plasma Source를 이용한 NF3 Cleaning Prcoess 에서는 왜 Ar (Innert gas)를 이용해야만 Plasma 방전이 되는 건가요?

 

2.  물론 Deposition 공정 시 공정 조건을 위하여, Ar gas와 같은 불활성 기체를 쓰지만, Plasma 방전을 목적으로 쓰지는 않는데, 

    RPS의 경우 왜 NF3 gas만 이용 시 Plasma 방전이 안되는 것인가요?

 

물론 Deposition 공정 장비는 13.56MHz를 사용하고, RPS의 경우 400kHz를 사용합니다. 

 

혹시 이러한 주파수 차이와 연관이 있는 것인가요? 아니면 Gas의 결합 에너지의 차이와 연관이 있는 것인가요?

 

마지막으로 RPS의 Plasma 방전이 잘되게 하려면 어떠한 방법이 있을지도 함께 답변해주시면 감사하겠습니다.

 

 

감사합니다!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102913
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61431
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105842
173 플라즈마 진단 공부중 질문 [Balance equation] [1] 1010
172 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 1006
171 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 1005
170 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 978
169 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 977
168 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [전극 설계 및 방전기 운전 모드 개발] [1] 967
167 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 965
166 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 963
165 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 958
164 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [Sheath impedance] [1] 956
163 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 954
162 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 951
161 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 948
160 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 948
159 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 945
158 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 942
157 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능] [2] 936
156 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 934
155 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 929
154 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 922

Boards


XE Login