Sputtering RF Sputtering Target Issue

2022.10.28 21:14

백지현 조회 수:598

안녕하세요 교수님. 이번에 새로이 RF 스퍼터를 사용하게 된 학생입니다. 

첨부한 이미지와 같이 현재 metal oxide 타겟을 이용하여 증착 후 타겟에 검은색 ring 모양의 contamination이 생기는 이슈가 있습니다.

서칭 결과 Magnetic feild로 인한 redeopsition으로 추청되는데 해당 현상이 맞는 것인 지와 현상을 해결하기 위한 방법(e.g. RF power 감소)을 여쭙고자 합니다.

아직 스퍼터를 사용한 지 얼마 되지 않아 많이 미숙하여 자체적인 판단이 어려워 도움을 요청드리는 바입니다.

날이 많이 추워졌는데 건강 조심하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다!

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
129 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 616
128 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 615
127 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
126 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
125 plasma 공정 중 색변화 [1] 606
124 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 605
123 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
122 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 603
» RF Sputtering Target Issue [2] file 598
120 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 596
119 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 594
118 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 594
117 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 589
116 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 589
115 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
114 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585
113 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 580
112 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 576
111 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 576
110 활성이온 측정 방법 [1] 572

Boards


XE Login