Chamber component Bais 인가 Cable 위치 관련 문의
2020.09.18 08:27
안녕하세요. 문의드립니다.
Etch Chamber 에 Chuck 하부에 RF Bias Cable Feeding 을 위해 대부분의 장비들은 정 가운데로 Feeding 되는것으로
알고 있습니다. 정 가운데 말고 옆으로 5~10센치정도 벗어나 Feeding 을 하게 되면 Chamber 공정 진행에 영향을 주게 될런지?
문의를 드립니다.
답변 부탁드리겠습니다. 감사합니다.
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개념적으로는 영향이 있을 것 같습니다. 특히 VHF 대비 LF, 즉 인가 주파수에 따라서 그 영향을 보다 극명해 질 수 있습니다. 당연히 파장이 짧으면 ,즉 주파수가 크거나 고출력 인가 조건에서는 좀 더 신경을 쓰시는 것이 좋을 것 같습니다. 심지어는 feeder의 방향과 구조도 영향을 미칩니다.
당연히 상황이 어려워서 고민하실 것입니다만 원론적인 답변밖에 드리지 못합니다.
참고로 장비의 대상 공정이 허용하는 공정 마진 하에서 기구 설계를 진행하나, 플라즈마 분포를 관찰하면서 공정과 협의를 통해서,
feeder 설계를 개선하는 방법도 있겠습니다. 워낙 미묘한 변화가 예상되니 가능하면 체계적으로 데이터를 많이 모아 놓으시는 것이 자산이 될 것 같습니다.