Deposition Compressive한 Wafer에 대한 질문

2023.06.03 11:56

CVDENG'R 조회 수:235

현재 반도체회사에서 CVD 엔지니어로 근무중에 있습니다.

최근 CuSi 공정에서 지속적으로 Thickness에 문제가 발생하여 Wafer Map을 확인하게 되면 Compressive한 Map으로 관찰되고 있습니다.

Wafer를 Compressive하게 변화하게 만드는 source가 대부분 어떤게 있는지 알 수 있을까요? (Ex. AlF, Plasma, Temp ETC)

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76865
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20267
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68750
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92688
57 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 341
56 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 327
55 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 324
54 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 324
53 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 322
52 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 318
51 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 315
50 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 298
49 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 279
48 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 278
47 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 268
46 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 266
45 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 261
44 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 258
43 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 254
42 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 251
» Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 235
40 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 225
39 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 219
38 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 218
쓰기
태그

Boards

XE Login