[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내

2021.05.03 12:39

pal_webmaster 조회 수:73031

안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73031
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17616
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55516
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86027
646 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 23432
645 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23386
644 self Bias voltage 23299
643 plasma와 arc의 차이는? 23274
642 Arcing 23237
641 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23144
640 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23135
639 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23077
638 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23070
637 DC glow discharge 22942
636 No. of antenna coil turns for ICP 22845
635 고온플라즈마와 저온플라즈마 22806
634 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22791
633 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22770
632 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22693
631 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22487
630 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22476
629 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22447
628 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22408
627 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22380
쓰기
태그

Boards

XE Login