Plasma in general Decoupled Plasma 관련 질문입니다.
2021.03.15 06:56
안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.
관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.
ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.
pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.
질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.
항상 많이 배우고 있습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76829 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20251 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68743 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92582 |
| 257 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 578 |
| 256 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 266 |
| 255 | Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] | 473 |
| 254 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 591 |
| 253 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 151 |
| 252 | 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] | 408 |
| 251 | corona model에 대한 질문입니다. [1] | 170 |
| 250 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 210 |
| 249 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 620 |
| 248 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 320 |
| 247 | self bias [1] | 537 |
| 246 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 835 |
| 245 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 172 |
| 244 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 883 |
| 243 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 387 |
| 242 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1137 |
| 241 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1412 |
| 240 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 452 |
| 239 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1248 |
| 238 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 693 |