Plasma in general Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성
2021.05.22 22:23
교수님 안녕하세요.
1.
http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&category=67497&document_srl=78754
(Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate)
글 두번째 문단에 '다음으로 플라즈마 밀도를 제어하기 위해서 edge ring 혹은 confinement ring 등을 써서 플라즈마 확산을 줄이고 있습니다.'
부분에 대해 질문드립니다.
→ edge ring 혹은 confinement ring을 통해 "플라즈마 확산을 줄여" 플라즈마 균일하게 밀도를 제어한다는 말씀이신데,
두번째 문단 '가운데 밀도는 비교적 높고 가장자리로 가면서 밀도는 떨어지게 됩니다.'
→ 가장자리로 갈수록 플라즈마 밀도가 떨어지는데,
"플라즈마 확산을 늘려야" 플라즈마 밀도를 균일하게 제어할 수 있는 것이라 생각해 이에 대해 질문드리고 싶습니다.
2. Edge Ring이 플라즈마 밀도의 균일성을 높이는 원리를 설명해주실 수 있을까요?
항상 이 곳에서 많은 도움을 받고, 공부하고 있습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76734 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
| 253 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 147 |
| 252 | 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] | 397 |
| 251 | corona model에 대한 질문입니다. [1] | 169 |
| 250 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 206 |
| 249 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 606 |
| 248 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 315 |
| 247 | self bias [1] | 529 |
| 246 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 821 |
| 245 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 171 |
| 244 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 869 |
| 243 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 387 |
| 242 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
| 241 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1408 |
| 240 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 445 |
| 239 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1239 |
| 238 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 687 |
| 237 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 484 |
| 236 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 594 |
| 235 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1117 |
| 234 | Bias 관련 질문 드립니다. [1] | 3414 |