Plasma in general 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거

2023.06.13 09:36

플라플라 조회 수:471

안녕하세요 

현재 업무중 , 플라즈마 공정 후 타겟 (SiO2 표면) 이 친수성화 되어 후속공정에 많은 어려움이 있습니다. 

플라즈마 공정시 사용되는 Gas 는 CF4,O2,N2 로 구성되어 있으며, ICP 방식의 플라즈마를 사용하고 있습니다. 

공정 시 스텝 추가 혹은 공정후 표면의 친수성화를 제거할수 있는 방법이 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20846
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
259 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 356
258 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 358
257 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 372
256 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 385
255 plasma modeling 관련 질문 [1] 409
254 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 411
253 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 421
252 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 446
251 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 463
250 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 470
» 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 471
248 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 477
247 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 478
246 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 491
245 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 497
244 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 498
243 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 499
242 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 500
241 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 507
240 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 509
쓰기
태그

Boards

XE Login