Plasma in general Plasma Cleaning 관련 문의

2021.11.30 15:37

김강희 조회 수:1370

안녕하세요.

 

Plasma를 이용한 Cleaning 공부를 하고 있는 직장인 입니다.

 

Remote Plasma Asher 설비를 공부하고 있는데요,

 

PR Remove 시에는 O2 Gas를 사용하여 제거하는 것으로 알고있습니다.

 

C + O* → O2↑

 

여기서 O2를 Plasma로 방전시키고, N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는데,

 

여기서 Carrier gas는 말 그대로 Radical을 이동시키는 역할만 하는 것인가요??

 

N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는 이유가 궁금합니다.

 

추가로 Corrosion 방지를 위해 H2O Gas도 사용하는 것으로 알고 있는데요,

 

H2O 로 Corrosion을 방지하는 원리도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76911
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20298
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57217
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68766
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92739
197 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1007
196 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1018
195 플라즈마 코팅 [1] 1038
194 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1040
193 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1050
192 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1062
191 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1100
190 wafer bias [1] 1141
189 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1142
188 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1144
187 자기 거울에 관하여 1146
186 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1146
185 Group Delay 문의드립니다. [1] 1152
184 전자 온도 구하기 [1] file 1152
183 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1168
182 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1246
181 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1249
180 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1266
179 플라즈마 기초입니다 [1] 1294
178 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1308

Boards


XE Login