Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유

2022.07.08 16:18

빡깽 조회 수:1300

안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.

 

다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.

Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때

Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77295
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20491
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57410
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68940
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92987
199 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 990
198 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 998
197 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1011
196 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1030
195 플라즈마 코팅 [1] 1048
194 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1060
193 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1062
192 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1069
191 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1126
190 자기 거울에 관하여 1152
189 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1158
188 Group Delay 문의드립니다. [1] 1161
187 wafer bias [1] 1164
186 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1175
185 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1180
184 전자 온도 구하기 [1] file 1188
183 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1188
182 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1258
181 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1275
» RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1300

Boards


XE Login