Others O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다.
2017.02.12 00:26
안녕하세요 세종대학교에 재학중인 학부생 김지현 입니다.
저는 방학동안에 연구실에서 실험을 배우는 중입니다. 저희 연구실은 그래핀에 대해 연구하는 곳입니다.
제가 photo lithography를 배우는 과정중에 산소 플라즈마 처리를 사용하는데, 플라즈마가 무엇인지 궁금하여 공부중입니다.
plasma etching에 대해 찾아보던중에 사용하는 기체들이 용도에 따라서 다른데 그 차이점들을 알고 싶습니다,
그래핀을 O2 플라즈마에서 처리하는데 왜 O2를 사용하는지 궁금합니다. 즉 O2플라즈마의 특성에 대해 궁금합니다.
그리고 질소플라즈마와 아르곤 플라즈마의 특성과 차이점이 무엇인지 궁금합니다.
질문이 다소 복잡해서 다시 정리하자면 플라즈마 에칭 공정을 할때 용도에 따라 다른 기체들을 사용하는데, 어떠한 특성때문에
다른지 궁금합니다.
감사합니다.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76738 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92284 |
133 | 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] | 3443 |
132 | Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] | 3446 |
131 | 방전에서의 재질 질문입니다. [1] | 3557 |
130 | Descum 관련 문의 사항. [1] | 3721 |
129 | 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] | 3753 |
128 | RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] | 3774 |
127 | ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] | 3956 |
126 | RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] | 4180 |
125 | Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] | 4809 |
124 | RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] | 5152 |
123 | RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] | 5677 |
122 | OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] | 5927 |
» | O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] | 6182 |
120 | 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] | 6418 |
119 | O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] | 6438 |
118 | 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] | 6465 |
117 | 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] | 6540 |
116 | MFP에 대해서.. [1] | 7824 |
115 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8122 |
114 | 핵융합에 대하여 | 8564 |