Plasma in general low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전]

2021.04.09 12:04

반도체어린이 조회 수:1514

안녕하세요, 교수님. 반도체 업종 엔지니어로 일하고 있는 김기영입니다.

 

다름 아니라 보통 Pressure 영역대가 낮아질수록 아킹이 더 잘 발생한다고 하는데

 

왜 Low Pressure 영역이 High Pressure 영역보다 Arcing 이 취약한지 문의드립니다.

 

 

 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82697
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21974
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58755
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70388
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96316
180 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential] [2] 1388
179 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1468
178 플라즈마 내에서의 현상 [Neo-classical transport theory] [1] 1486
177 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1494
» low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1514
175 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1532
174 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1540
173 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1541
172 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1544
171 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1574
170 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1577
169 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1627
168 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1634
167 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1669
166 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 1752
165 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma] [1] 1814
164 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 1904
163 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 1936
162 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1953
161 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계] [1] 1969
쓰기
태그

Boards

XE Login