안녕하세요 반도체 회사에 근무하고 있는 회사원입니다.

RF Power 를 이용하여 Film을 Deposition 하는 부서에 있는데요,

주요 관리 항목 중에 RF Vpp 항목이 있습니다.

RF Vpp 관련해서 문의드릴게 있습니다.

 

1. Ti Film을 RF Power를 이용하여 Dep하는데, Chamber 내부에 Ti Film이 더 많이 Depo 되면 RF Vpp는 조금씩

    떨어지는데 왜 그런건지 알 수 있을까요?

    업체에서는 Vpp와 Vdc가 반비례 관계여서 Vpp는 떨어지고, Vdc가 올라가게 된다고 하는데

    실상은 Vpp와 Vdc는 모두 떨어지는 Trend를 보이고 있습니다.

 

2. 두 번째로 Chamber의 RF Ground 역할을 하는 Stage Heater를 교체했는데,

    이전보다 RF Vpp Level이 떨어졌습니다. 무슨 연유에서 그런건지 모르겠는데 Ground가 바뀐 것만으로도 Vpp가 떨어질 수 있을까요?

 

설명이 부족하지만 도움 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] 78473
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21040
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57867
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69400
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93945
160 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6461
159 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [Electron Temperature와 Excitation Temperature] [1] 6012
» RF Vpp관련하여 문의드립니다. [Self bias와 플라즈마 쉬스] [1] 5835
157 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [Child-Langmuir sheath 및 Debye length] [1] 5354
156 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5009
155 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수] [1] 4417
154 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 4333
153 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4178
152 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4054
151 Descum 관련 문의 사항. [라디컬 및 이온 생성과 플라즈마 생성 메커니즘] [1] 3920
150 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 3733
149 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model] [2] 3676
148 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성] [2] 3656
147 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 3602
146 방전에서의 재질 질문입니다. [방전과 전압] [1] 3595
145 코로나 방전의 속도에 관하여 [코로나 방전의 이해] [1] 3489
144 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 3400
143 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3377
142 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3182
141 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [전극 표면 전위] [1] 2942

Boards


XE Login