Hello,

I am working on a ALD (Atomic layer deposition) product wherein we are processing multiple wafers in the single reactor. 

When we supply RF power to one of the reactor (i.e. REACTOR 1), the other reactor (REACTOR 2) beside reactor 1 is showing high Vpp value. We are not supplying RF power to reactor 2. (Please note reactor 1 & reactor 2 share the gas flow volume and are not fully isolated)
Why would this be happening ? 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76428
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19993
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91340
50 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 641
49 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 606
48 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 591
» Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 578
46 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 566
45 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 549
44 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 548
43 plasma 공정 중 색변화 [1] 544
42 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 543
41 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 536
40 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 514
39 self bias [1] 498
38 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 477
37 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 475
36 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 473
35 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 467
34 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 461
33 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 460
32 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 460
31 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 443

Boards


XE Login