안녕하세요, 플라즈마에 대해서 공부 중인 학생입니다.

다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각 장치에서 바이어스 전극에 저주파 전력을 인가함으로써, 이온 입사에너지를 증대된다고 배웠는데요. 어떠한 이유로 저주파 전력을 인가시, 이온 입사 에너지가 증대되는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

그리고, 다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각장치에서 전극에 고주파 전력을 인가함으로써, 플라즈마 밀도에 정상파 효과가 발생한다고 해당 랩의 논문에서 읽었는데요. 어떠한 이유로 정상파 효과가 발생하고, 고주파 전력을 100MHz --> 60MHz로 변경시 정상파 효과가 줄어드는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

답변을 주시면, 공부하는데 많은 도움이 될 것같습니다.  답변을 부탁드립니다.(- -)(_ _)(- -)

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76414
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19992
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91339
130 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2684
129 질문있습니다. [1] 2518
128 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2407
127 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2314
126 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2271
125 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2268
124 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2216
123 플라즈마볼 제작시 [1] file 2203
122 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2155
121 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2072
120 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2071
119 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2053
118 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1906
117 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1902
116 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1891
115 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1875
114 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1846
113 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1836
112 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1675
» 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1669

Boards


XE Login