공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다.
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연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생
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108 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[2] | 247 |
107 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 634 |
106 |
안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.
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챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다.
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104 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다.
[3] | 518 |
103 |
H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련
[1] | 104 |
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RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 1092 |
101 |
remote plasma 데미지 질문
[1] | 1359 |
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RF generator 관련 문의드립니다
[3] | 566 |
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Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 297 |
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산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다.
[1] | 340 |
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ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 312 |
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Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.
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HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 386 |
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Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생
[1] | 266 |
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에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 3423 |
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ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
[1] | 492 |
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Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의
[1] | 1584 |