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공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20045
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68585
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91540
154 ICP source에서 End-capacitor와 Vpp의 관계 file 57
153 ICP에서 전자의 가속 [1] 76
152 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 108
151 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 80
150 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 65
149 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 288
148 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 312
147 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 430
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145 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 617
144 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 567
143 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 630
142 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 401
141 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 592
140 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1091
139 ICP lower power 와 RF bias [1] 1374
138 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 562
137 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 592
136 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1011
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