공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[262]
| 76503 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20045 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57103 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68585 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 91540 |
154 |
ICP source에서 End-capacitor와 Vpp의 관계
| 57 |
153 |
ICP에서 전자의 가속
[1] | 76 |
152 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여
[2] | 108 |
151 |
파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다
[2] | 80 |
150 |
RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다.
[1] | 65 |
149 |
플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할
[1] | 288 |
148 |
ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유
[1] | 312 |
147 |
Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
[1] | 430 |
146 |
대기압 플라즈마 문의드립니다
[1] | 225 |
145 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
[1] | 617 |
144 |
N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문
[1] | 567 |
143 |
반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
[1] | 630 |
142 |
안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
[1] | 401 |
141 |
챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성
[1] | 592 |
140 |
PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
[1] | 1091 |
139 |
ICP lower power 와 RF bias
[1] | 1374 |
138 |
CCP RIE 플라즈마 밀도
[1] | 562 |
137 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1] | 592 |
136 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스)
[1] | 1011 |
135 |
plasma striation 관련 문의
[1] | 457 |