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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61622
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129 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 195
128 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 158
127 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 251
126 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 535
125 plasma 형성 관계 [1] 383
124 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 288
123 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 541
122 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2156
121 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 364
120 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 879
119 anode sheath 질문드립니다. [1] 363
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117 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 680
116 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2738
115 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 356
114 플라즈마 챔버 [2] 546
113 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1259
112 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 437
111 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 546
110 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 443
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