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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51344
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64190
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84167
137 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 106
136 RPSC를 이용한 SiO, SiN Etch 관련 문의드립니다. [1] 188
135 plasma striation 관련 문의 [1] file 164
134 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 143
133 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 247
132 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 355
131 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 116
130 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 832
129 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 671
128 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 349
127 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 448
126 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 699
125 plasma 형성 관계 [1] 731
124 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 427
123 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1016
122 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2552
121 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 519
120 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1168
119 anode sheath 질문드립니다. [1] 509
118 라디컬의 재결합 방지 [1] 461

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