Remote Plasma ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
2012.02.25 11:04
ICP dry etch 장비에 대해 이제막 공부를 시작하고 있는데요..
RF Power로 부터 가해지는 전자기파가 도체 내를 통과할 수 있는 깊이가 skin depth라고 알고 있는데
그렇다면 skin depth가 클수록 전자기파가 플라즈마에 영향을 주어 플라즈마 밀도도 높아져서
etch rate 측면에서 볼 때 좋아진다고 생각이 되는데... 이런 메카니즘으로 이해하는것이 맞는 건지요..?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76871 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20273 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92694 |
| 62 | 핵융합 질문 [1] | 569 |
| 61 | CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] | 7658 |
| 60 | ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] | 1277 |
| 59 |
코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다.
[1]  | 6041 |
| 58 | RPSC 관련 질문입니다. [2] | 4053 |
| 57 | PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] | 846 |
| 56 | micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] | 1225 |
| 55 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9844 |
| 54 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1332 |
| 53 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1820 |
| 52 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1398 |
| 51 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9673 |
| 50 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2693 |
| 49 | 저온 플라즈마에 관해서 [1] | 6683 |
| 48 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1] | 8621 |
| 47 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8581 |
| 46 | 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] | 6410 |
| 45 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10374 |
| 44 | 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] | 6369 |
| 43 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8752 |