Remote Plasma remote plasma 데미지 질문

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:14461

안녕하세요 


반도체 공부하고 있는 학생입니다


반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?


자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
119 anode sheath 질문드립니다. [1] 984
118 라디컬의 재결합 방지 [1] 791
117 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1453
116 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3324
115 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 973
114 플라즈마 챔버 [2] 1243
113 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1670
112 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1323
111 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1355
110 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 806
109 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1488
108 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16654
107 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2315
106 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2478
105 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4486
104 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3708
103 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 434
102 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2382
» remote plasma 데미지 질문 [1] 14461
100 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914
쓰기
태그

Boards

XE Login