CCP CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.

2010.01.28 19:44

kailo 조회 수:23302 추천:157

안녕하세요? 궁금한게 있어서 여쭤봅니다.
Source는 CCP방식입니다. 13.56MHz로 구동되고 matcher 단에서 low pass filter를 통해 나오는 Vdc 값을 모니터링합니다.
그런데 Source 전극에 anodizing처리를 했는데 품질이 좋지 못한 anodizing의 경우에는 Vdc 값이 "-"로 뜨는데 고품질 anodizing의 경우에는 "+"값을 띕니다.
고품질의 경우에는 CCP 소스면에서 완전히 floating되어서 그러는것 같은데
정확한 메카니즘을 이해할 수 없어서 문의드립니다.
왜 "+"값을 나타내는지에 대해 설명해 주실수 있는지요?
플라즈마 방전은 저품질이나 고품질 모두 이상없이 뜹니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20847
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
67 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 600
66 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1934
65 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 958
64 가입인사드립니다. [1] 1900
63 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1430
62 핵융합 질문 [1] 592
61 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7702
60 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1305
59 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6196
58 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4166
57 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 864
56 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1259
55 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9860
54 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1365
53 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1928
52 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1413
51 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9715
50 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2726
49 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6764
48 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8680

Boards


XE Login