개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [233] | 75734 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19418 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56647 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67965 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90140 |
46 | 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] | 6392 |
45 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10245 |
44 | 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] | 6322 |
43 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8644 |
42 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8070 |
41 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24163 |
40 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20255 |
39 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 23930 |
38 | 대기압 플라즈마 | 40443 |
37 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 15960 |
36 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23212 |
35 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18446 |
34 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23186 |
33 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21471 |
32 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24903 |
31 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18844 |
30 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21632 |
29 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21497 |
28 | 대기압 상태의 플라즈마 측정 | 19690 |
27 | Lissajous figure에 대하여.. | 20562 |