CCP 라디컬의 재결합 방지

2021.06.25 15:30

피했습니다 조회 수:367

안녕하세요. CCP 플라즈마 관련해서 연구를 하고 있는 엔지니어입니다.

항상 좋은 가르침 덕분에 많이 배우고 있습니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 CCP플라즈마 공정 시 생기는 라디컬들의 재결합(Recombination) 입니다.

 

저희는 RF플라즈마로 CCP 환경에서 플라즈마를 만들고, 현재 파워전극의 반대편에 기판을 놓기 때문에 이온 충돌에 의한 식각 현상은 없다고 보고 있습니다.

 

이런 상황에서 저희가 기본적으로 OH와 H 라디컬 생성을 위해 H2O를 집어넣는데요. 

산소 라디컬도 필요하게 되어 O2가스도 집어 넣을까 생각하고 있습니다.

그런데 궁금한 것은 H2O 라디컬에서 H, OH가 모두 나오는데  여기서 생성된 H라디칼과 O2라디칼이 재결합을 해서 기판과의 반응이 효율이 제대로 나오지 않을 수도 있다는 것입니다.

 

 --> O2 라디컬을 추가하면 H 라디컬과 재결합이 일어나면서 오히려 반응 효율을 떨어뜨리게 될까요?

아니면 재결합은 많이 일어나지 않고 OH, H, O 라디컬이 모두 기판과 잘 반응할 수 있을까요??

 

교수님은 어떻게 생각하시는지요?

 

혼자 생각해 보기로는 Residence time을 조정해서 실험 해볼 수 있지 않을까 합니다.

Residence time이 길면 재결합을 하기 위한 충분한 시간이 주어지는 것이라고 볼 수 있을까요?

 

혹은 N2나 Ar 같은 분위기 가스들이 재결합을 어느정도 막아준다고 들었는데 이런 가스들을 더 추가하면서 재결합을 막을 수 있을지 궁금합니다.

 

언제나 감사합니다!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3648
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15339
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62994
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82123
131 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 18
130 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 254
129 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 262
128 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 269
127 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 337
126 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 340
125 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 341
124 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 348
123 핵융합 질문 [1] 365
» 라디컬의 재결합 방지 [1] 367
121 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 382
120 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 387
119 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 406
118 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 413
117 anode sheath 질문드립니다. [1] 414
116 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 420
115 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 433
114 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 470
113 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 499
112 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 503

Boards


XE Login