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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
[1] | 18459 |
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RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18753 |
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기중방전에서 궁금한것이
| 19044 |
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AC 플라즈마에서의 전압/전류 형상...
| 19078 |
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대기압 상태의 플라즈마 측정
| 19554 |
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상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다.
| 19569 |
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DBD플라즈마와 플라즈마 impedance
| 20001 |
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상압 플라즈마 방전에 관한 문의
[1] | 20107 |
23 |
Lissajous figure에 대하여..
| 20388 |
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ccp-icp
| 20660 |
21 |
F/S (Faraday Shield)
| 20801 |
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Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용
| 21193 |
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상압 플라즈마 관련 문의입니다.
[1] | 21283 |
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대기압플라즈마를 이용한 세정장치
| 21317 |
17 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
| 21348 |
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CCP/ICP , E/H mode
| 21355 |
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플라즈마의 발생과 ICP
| 21591 |
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[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22511 |
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입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22522 |
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No. of antenna coil turns for ICP
| 22744 |