기초적인 질문인데요

PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요

Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.

 

Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76872
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
62 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4054
61 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4526
60 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5081
59 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6042
58 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6369
57 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
56 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6683
55 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7658
54 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8137
53 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8581
52 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8621
51 수중플라즈마에 대해 [1] 8753
50 대기압 플라즈마에 대해서 9643
49 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9673
48 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9845
47 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10375
46 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11460
45 냉각수에 의한 Power Leak 14447
44 remote plasma 데미지 질문 [1] 14481
43 In-flight plasma process 15506

Boards


XE Login