안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2566
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 13728
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49693
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61644
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80282
129 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 164
128 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 217
127 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 225
126 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 257
125 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 292
124 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 303
123 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 317
122 라디컬의 재결합 방지 [1] 318
121 핵융합 질문 [1] 346
120 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 357
119 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 360
118 anode sheath 질문드립니다. [1] 365
117 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 367
116 plasma 형성 관계 [1] 393
115 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 398
114 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 410
113 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 440
112 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 443
111 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 446
110 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 468

Boards


XE Login