안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.


현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.


사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.


헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다. 


골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77243
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20470
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57374
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68905
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92953
145 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 466
144 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 472
143 plasma striation 관련 문의 [1] file 500
142 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 521
141 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 522
140 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 528
139 핵융합 질문 [1] 578
138 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 579
137 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 603
136 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 606
135 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 631
134 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 634
133 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 675
132 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 728
131 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 752
130 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 762
» RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 769
128 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 770
127 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 779
126 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 800

Boards


XE Login