안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [270] 76746
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20216
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57169
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68706
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92304
79 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1944
78 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1957
77 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2008
76 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
75 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
74 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2316
73 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2316
72 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2318
71 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2385
70 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2479
69 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2644
68 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2687
67 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2785
66 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3325
65 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3411
64 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3538
63 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3710
62 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4013
61 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4488
60 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4949

Boards


XE Login