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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69399
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88 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 1951
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81 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1687
80 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1682
79 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1634
78 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1619
77 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1616
76 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1605
75 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1518
74 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1503
73 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1454
72 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응] [1] file 1446
71 수방전 플라즈마 살균 관련.. 문의 드립니다. [플라즈마 기술 센터 문의] [1] 1429
70 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1412
69 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1403
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