안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [62] 1554
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 2416
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59725
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75748
24 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 531
23 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 512
22 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 494
21 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 477
» Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 439
19 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 420
18 플라즈마 챔버 [2] 415
17 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 402
16 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 392
15 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 376
14 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 365
13 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 342
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 333
11 핵융합 질문 [1] 331
10 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 318
9 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 291
8 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 281
7 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 265
6 anode sheath 질문드립니다. [1] 253
5 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 248

Boards


XE Login