기초적인 질문인데요

PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요

Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.

 

Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] 78473
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21040
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57867
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69400
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93945
68 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법] [3] 1384
67 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1360
66 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1326
65 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [국부 전기장 형성 및 reflect power] [2] 1320
64 RF Generator 주파주에 따른 Matcher Vms 변화 [주파수에 따른 임피던스 변화] [1] 1311
63 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계] [1] 1294
62 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1289
61 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1245
60 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1221
59 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1138
58 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1116
57 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1110
56 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1094
55 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1084
54 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1052
53 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1017
52 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 976
51 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 948
50 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 935
49 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 910

Boards


XE Login