안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76902
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20295
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57212
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68764
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92723
42 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 819
41 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 815
40 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 814
39 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 811
38 라디컬의 재결합 방지 [1] 810
37 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 792
36 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 763
35 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 762
34 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 722
33 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 721
32 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 717
31 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 631
30 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 628
» Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 627
28 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 620
27 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 599
26 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 590
25 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 576
24 핵융합 질문 [1] 571
23 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 519

Boards


XE Login