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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68922
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25 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 524
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19 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 406
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13 skin depth에 대한 이해 [1] 232
12 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 215
11 ICP에서 전자의 가속 [1] 194
10 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 159
9 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 145
8 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 132
7 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 129
6 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 127

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