Sputtering sputtering 을 이용한 film depostion
2024.03.16 00:57
안녕하세요
제 질문은 플라즈마와는 크게 관련이 없지만.. 마땅한 곳이 없어서 부득이하게 질문 드리게 되었습니다.
저는 TFT 소자를 제작하려고 하는 석사과정생입니다.
방법은 p-Si/sio2(100nm) 기판 위에 sputtering으로 channel 전면 증착 후 metal (shadow mask) electrode 형성 입니다.
저의 경우 사정상 타 연구실의 RF sputtering 장비를 빌려서 채널증착을 하는데요,
아무래도 전면증착을 해서 그런지 채널 형성만 하고 vertical로 IV를 찍어보면 current가 흐르게 나오고 있습니다.
(leakage 수준이 아닌 linear하게 쭉쭉 흐르는 전류입니다)
소자크기는 1.5cm x 1.5cm 입니다.
소자의 edge 부분에 채널물질이 증착되어 conduction path를 형성하였다고 생각하여 증착 후 소자의 사면을 다 잘라내고 측정을 해봐도
같은 결과가 나와서 조금 답답한 상황입니다.
타 논문들을 보면 이러한 방식으로 간단하게 TFT 구조를 만들고 있는데 혹시 제가 놓치고 있는 부분이 있을까요?
RF sputting으로 채널증착을 전면으로 하고나면 보통 etch를 하는지, 혹은 전면으로 증착하면 원래 안되고 shadow mask를 두고 rf sputtering을 통해 증착하는지 궁금합니다.
아 제가 채널 물질로 사용하고 있는 타겟은 IGZO 입니다.
(측정기나 다른 부분에서의 문제는 없을 것으로 예상됩니다, isolation을 한 소자는 잘 찍히는데 제가 사정상 포토를 하기가 매우 힘든상황입니다)
읽어주셔서 감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76739 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20207 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68703 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92294 |
22 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 422 |
21 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 147 |
20 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 206 |
19 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11450 |
18 | Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] | 759 |
17 | glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] | 1507 |
16 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2129 |
15 | 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] | 955 |
14 | 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] | 3443 |
13 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1038 |
12 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2727 |
11 | 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] | 1955 |
10 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2173 |
9 | 방전에서의 재질 질문입니다. [1] | 3557 |
8 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9029 |
7 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13056 |
6 | 플라즈마에서 전자가 에너지를 어느 부분에서.. | 17751 |
5 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134445 |
4 | Breakdown에 대해 | 21368 |
3 | plasma와 arc의 차이는? | 24670 |
이름을 babo라 하셨네요. 모른다고 babo라면 이 게피판은 babo nara 입니다. 반갑습니다.
아무튼, 본 건은 제가 경험이 없어 설명할 길을 못찾겠습니다. 혹시 군산대학교 주정훈 교수님과 의논해 보면 어떨까요? 방향을 찾을 수 있을 것 같네요.