Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.
2017.08.03 10:57
안녕하세요.
저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.
장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.
즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...
일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?
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실명을 쓰시고, 해당 내용은 self bias (혹은 DC bias) 관련 내용을 공부하시면 이해가 쉬우실 것입니다. 관련해서 본 계시판에 설명이 수록되어 있으니 참고하시면 도움이 될 것입니다. 아울러 장비 matcher에서 Vpp 값이 어느 지점의 값인가를 면밀하게 살펴볼 필요가 있습니다. Matcher 제공사에서 상세한 정보를 제공할 것으로 기대합니다.