안녕하세요. 최근에 원자층식각(Atomic Layer Etching) 또는 ALD시 remote plasma란 용어가 자주 나오는데요, 일반적으로 이야기 하는 Plasma 와 어떤 차이가 있는 건가요? 생성방법? 이온 밀도? 등등 차이점에 대해 설명좀 부탁드립니다. 항상 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [301] 78006
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20831
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57733
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69247
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93622
27 Druyvesteyn Distribution 87
26 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 338
25 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 541
24 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 747
23 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1048
22 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3322
21 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2420
20 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5991
19 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 2062
18 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2305
17 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1743
16 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3174
15 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8148
» remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22499
13 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17850
12 플라즈마내의 전자 속도 [1] 21972
11 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] 18873
10 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 22033
9 저온 플라즈마에 관한 질문 18212
8 플라즈마를 손으로 만질 수는 없나요?? 19279

Boards


XE Login