안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5833
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17290
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53125
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64508
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85121
93 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 792
92 플라즈마 관련 교육 [1] 724
91 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 693
90 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 260
89 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2794
88 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 459
87 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 539
86 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 312
» Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 482
84 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 2490
83 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 346
82 진학으로 고민이 있습니다. [2] 806
81 질문있습니다. [1] 1530
80 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 526
79 Group Delay 문의드립니다. [1] 979
78 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3054
77 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 330
76 플라즈마 충격파 질문 [1] 693
75 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 778

Boards


XE Login