안녕하세요,

반도체 업체에서 PVD, Descum을 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

원래 담당이 Plasma 계열이 아니라 많은 것들이 부족하여 찾아찾아 이곳까지 발을 들이게 되었습니다. 궁금한 사항은 하기와 같습니다.

-. 현재 ICP type plasma 장비를 사용하고 있습니다.

-. ICP 설비 사용함에 있어 RF를 사용하여 coil에 bias를 인가함으로  plasma를 발생시키는 것과, platen(chuck)에 bias를 인가 하여 (-)극으로 만드는 것까지는 이해하고 있습니다.


==>  여기서, RF bias인가를 통해 platen이 (-)극으로 변경되었을 때, DC bias라는 명칭이 사용되는데(장비상 display, Vdc 또는 DC bias), 이 부분이 self bias를 통해 생성되는 bias라고 생각하면 되는 것인가요?

==> 그리고 Vdc 또는 DC bias로 display되는 전압이 혹시 DC 전원을 사용한 plasma와 동일한 영향력을 가지고 있는지 궁금합니다.

==> 영향력이 의미하는 부분은 DC 전원 사용하여 만든 음극은 electrode에 민감한 MEMS 자재를 작업하기엔 어렵기 때문에, 혹시 RF bias로 만든 DC bias가 DC전원을 사용했을 때와 동일한 effect를 가지는지가 궁금합니다.


답변주시면 감사드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [262] 76503
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20047
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57103
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68586
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91564
81 질문있습니다. [1] 2535
80 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 722
79 Group Delay 문의드립니다. [1] 1129
» ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3894
77 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 424
76 플라즈마 충격파 질문 [1] 782
75 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 949
74 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 388
73 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3378
72 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 815
71 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 704
70 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1542
69 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 338
68 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1262
67 RF frequency와 RF power 구분 39041
66 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 425
65 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5099
64 문의 드립니다. [1] 855
63 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1408
62 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6089

Boards


XE Login