Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유
2022.07.08 16:18
안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.
다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.
Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때
Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78047 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20850 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57738 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93636 |
| 82 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 850 |
| 81 | 문의 드립니다. [1] | 896 |
| 80 | O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] | 995 |
| 79 | Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] | 1047 |
| 78 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1080 |
| 77 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1177 |
| 76 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1187 |
| 75 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1234 |
| » | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1351 |
| 73 | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1375 |
| 72 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1426 |
| 71 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1466 |
| 70 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1491 |
| 69 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1496 |
| 68 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1596 |
| 67 | 질문있습니다. [1] | 2622 |
| 66 | Bias 관련 질문 드립니다. [1] | 3552 |
| 65 | Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] | 3657 |
| 64 | 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] | 3973 |
| 63 | ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] | 4124 |