Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유

2022.07.08 16:18

빡깽 조회 수:1259

안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.

 

다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.

Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때

Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76872
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
42 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5187
41 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4214
40 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3992
39 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3805
38 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3481
37 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3454
36 질문있습니다. [1] 2583
35 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
34 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1453
33 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1436
32 플라즈마 관련 교육 [1] 1414
31 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1393
30 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1303
» RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1259
28 Group Delay 문의드립니다. [1] 1151
27 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1142
26 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1131
25 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1040
24 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 966
23 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 963

Boards


XE Login