현재, 스퍼터링 시스템에 대해 공부를 하고 있습니다.

자연스레 플라즈마에 대해 알아야 되더라고요.

근데 공부 중에 플라즈마에 관련된 여러 변수 또는 파라미터들을 알게 되었습니다.

그 중 제가 질문하고자 하는 변수는 RF 파워인데요

RF 파워가 커지면 이온 에너지도 커진다고 알고 있습니다.

이게 왜 그런지 알고 싶습니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76920
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20306
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68773
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92752
43 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5193
42 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4222
41 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4002
40 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3815
39 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3497
38 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3461
37 질문있습니다. [1] 2585
36 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1569
35 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1455
34 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1438
33 플라즈마 관련 교육 [1] 1417
32 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
» 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1310
30 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1268
29 Group Delay 문의드립니다. [1] 1152
28 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1144
27 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1144
26 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1040
25 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 970
24 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 967

Boards


XE Login