CCP CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
2016.12.15 13:35
안녕하세요?
제가 알기로는 CCP는 두 전극사이에서 플라즈마가 일어나는 것으로 알고 있는데, 만약 두 전극 사이에 유전체가 속해진다면, 이 유전체가 어떠한 역할을 하는지 알고 싶습니다.
http://plasma.ee.pusan.ac.kr/xe/sou
위의 사이트에서 보니깐 CCP에 유전체가 원래 있는 것처럼 보이는데, 웹에서 다른 내용을 보면 유전체 이야기는 없는, 단지 두 개의 평행한 전극만 이야기하는 내용도 있어서 궁금해서 글을 올립니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] | 73027 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17616 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55516 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65696 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86027 |
24 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 211 |
23 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 263 |
22 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] ![]() | 542 |
21 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] ![]() | 1719 |
20 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준
[1] ![]() | 416 |
19 | CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] | 2776 |
18 | RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] | 600 |
17 | CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] | 1712 |
16 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 608 |
15 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 528 |
14 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1041 |
13 | CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] | 614 |
12 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16319 |
11 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 785 |
10 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 834 |
9 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19583 |
8 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1331 |
» | CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] | 7404 |
6 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23070 |
5 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18794 |
CCP 방전은 전극 사이에 플라즈마 유전체가 놓여 있는 형태로 방전이 전극의 전기장에 의해 유지되는장치 를 포괄적으로 지칭하는 말이라도 이해하시고, 전극의 재료와 방전조건에 따라서 유전체를 강조하는 유전체 격벽 방전(DBD;dielectric barrier discharge)가 있고, 공정용CCP 장치등이 있습니다. CCP와DBD는 여러차례 소개가 되었으니 게시판의 내용을 참고하시기 바랍니다.