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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2291
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61083
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78326
20 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22917
19 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22433
18 CCP/ICP , E/H mode 21198
17 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18720
16 capacitively/inductively coupled plasma 17413
15 CCP 의 electrode 재질 혼동 16129
14 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 14867
13 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 12285
12 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7149
11 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [2] 2059
10 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1108
9 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 829
8 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 627
7 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 609
6 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 525
5 anode sheath 질문드립니다. [1] 327
4 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 324
3 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 317
2 라디컬의 재결합 방지 [1] 289
1 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 81

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