|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[143]
| 5811 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17216 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 53083 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 64489 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 85103 |
|
24 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23050 |
|
23 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22646 |
|
22 |
CCP/ICP , E/H mode
| 21649 |
|
21 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18777 |
|
20 |
capacitively/inductively coupled plasma
| 17547 |
|
19 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 16653 |
|
18 |
CCP 의 electrode 재질 혼동
| 16239 |
|
17 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[2] | 16220 |
|
16 |
CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
[1] | 7364 |
|
15 |
CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?
[3] | 2668 |
|
14 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 1300 |
|
13 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 1267 |
|
12 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1]  | 1222 |
|
11 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해
[1] | 972 |
|
10 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 808 |
|
9 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 731 |
|
8 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응
[1] | 567 |
|
7 |
RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때
[1] | 560 |
|
6 |
anode sheath 질문드립니다.
[1] | 551 |
|
5 |
라디컬의 재결합 방지
[1] | 488 |
