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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83486
22 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23006
21 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22550
20 CCP/ICP , E/H mode 21426
19 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18765
18 capacitively/inductively coupled plasma 17495
17 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 16577
16 CCP 의 electrode 재질 혼동 16191
15 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 15995
14 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7265
13 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2402
12 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1212
11 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1025
10 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 796
9 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 723
8 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 636
7 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 491
6 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 466
5 anode sheath 질문드립니다. [1] 456
4 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 448
3 라디컬의 재결합 방지 [1] 408

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