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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76707
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20159
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57160
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68683
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92236
30 skin depth에 대한 이해 [1] 114
29 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 105
28 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 98
27 ICP에서 전자의 가속 [1] 129
26 ICP lower power 와 RF bias [1] 1431
25 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1057
24 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 829
23 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
22 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2310
21 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1668
20 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1316
19 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1479
18 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2309
17 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2469
16 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3686
15 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1594
14 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2312
13 공정플라즈마 [1] 1145
12 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1949
11 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1660

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