안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76682
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57154
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68674
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92189
30 skin depth에 대한 이해 [1] 105
29 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 97
28 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 87
27 ICP에서 전자의 가속 [1] 126
26 ICP lower power 와 RF bias [1] 1429
25 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1055
24 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 826
23 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 712
22 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2307
21 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1666
20 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1311
19 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1476
18 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2307
17 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2466
16 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3678
15 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1594
14 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2305
13 공정플라즈마 [1] 1145
12 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1943
11 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1659

Boards


XE Login