안녕하세요. 교수님.

일전에 ICP에서 발생되는 self bias로 쿼츠가 식각될 수 있는지에 대해 문의드렸습니다.

그 때의 답변 감사드립니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 그때와 이어지는 내용인데요.

저희의 실험(다층박막) 중 SiO2가 아닌 다른 물질을 증착 중 식각된 쿼츠에서 SiO2가 기판으로 날아와 일부 증착되는 것으로 예상이 됩니다.

그래서 여러가지 특성에 일부 영향을 주는데

쿼츠 쪽에서 발생되는 시각을 줄이기 위해 self bias를 줄일 방안을 생각해보았습니다.

그 중에 ICP영역(코일 전면부)에 영향을 주지 않는 선에서 anode를 장착하여 self bias를 만드는 전자들을 빼내어주는 방안을 생각해보았는데

이 경우 플라즈마 형성에는 문제가 없는지와 이 방법으로 정말 self bias를 줄여 식각현상을 줄이거나 없앨 수 있는지가 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3645
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15335
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50574
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62987
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82070
24 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 348
23 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 341
22 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 670
» 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1309
20 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 507
19 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 748
18 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1554
17 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 1961
16 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 1962
15 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 963
14 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1043
13 공정플라즈마 [1] 757
12 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1145
11 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 879
10 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1562
9 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22507
8 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21347
7 플라즈마가 불안정한대요.. 24272
6 No. of antenna coil turns for ICP 22744
5 ICP TORCH의 냉각방법 15767

Boards


XE Login