ICP RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계

2021.11.08 17:20

피했습니다 조회 수:2469

안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.

 

언제나 친절한 답변 감사 드립니다.

 

다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.

 

Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면

 

파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데

 

왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.

 

저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데, 

 

플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.

감사합니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78039
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20849
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93635
33 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 80
32 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 93
31 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 83
30 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 269
29 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 346
28 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 270
27 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 226
26 ICP lower power 와 RF bias [1] 1570
25 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1224
24 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 886
23 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 750
» RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2469
21 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1715
20 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1477
19 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1592
18 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2416
17 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2532
16 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3962
15 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1694
14 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2500
쓰기
태그

Boards

XE Login