ICP skin depth에 대한 이해

2024.04.02 16:59

김준서 조회 수:231

안녕하십니까, 교수님. 플라즈마에 관심이 많은 전자과 학부생입니다.

ICP에서의 skin depth에 대해 알아보고 있는데, 궁금한 점이 있어 질문 드리고 싶습니다.

 

skin depth는 전자기파가 챔버 내로 침투할 수 있는 길이로, 플라즈마 밀도가 높아질수록 해당 길이는 짧아진다고 알고 있습니다.

고밀도 플라즈마에서는 quartz window 근방에 형성된다고 알고 있는데, 그렇다면 icp는 주로 해당 부근에서 전자가 가속된다고 생각해도 될까요?(CCP가 Cathode fall 부근에서 주로 가속되는 것과 비슷하게).

 

비슷한 방면으로, icp에서 E-mode->H mode로 전환되며 플라즈마 밀도가 커지면서 skin depth 또한 줄어들 것이니, 플라즈마 형성 초기에는 전자가 흡수하는 에너지가 커지다가, 이후 점차 작아질 것이라고 생각하는데, 이러한 태생적인 특징이 icp 플라즈마 밀도 증가의 한계에 영향을 끼친다고 볼 수 있을까요?

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77260
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57383
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68910
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92960
31 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 33
30 ICP에서 전자의 가속 [1] 190
29 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 209
» skin depth에 대한 이해 [1] 231
27 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 270
26 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 728
25 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 857
24 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1170
23 공정플라즈마 [1] 1171
22 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1421
21 ICP lower power 와 RF bias [1] 1509
20 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1546
19 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1654
18 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1683
17 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1692
16 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1916
15 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 2006
14 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2371
13 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2411
12 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2411

Boards


XE Login