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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76967
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33 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 491
32 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 672
31 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 816
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26 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1345
25 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1547
24 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 2020
23 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 2034
22 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 2043
21 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 2093
20 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2178
19 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2186
18 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2199
17 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 2548
16 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2567
15 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2769
14 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2835

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