|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[324]
| 88998 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 22989 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 59673 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 71477 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 99618 |
|
33 |
Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어]
[1] | 233 |
|
32 |
micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장]
[1] | 334 |
|
31 |
ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 356 |
|
30 |
ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
[1] | 439 |
|
29 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
[1]  | 508 |
|
28 |
skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
[1] | 561 |
|
27 |
ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential]
[1] | 612 |
|
26 |
ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델]
[1] | 887 |
|
25 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 1128 |
|
24 |
공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1346 |
|
23 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1559 |
|
22 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1750 |
|
21 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1805 |
|
20 |
ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 1855 |
|
19 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
[1] | 1861 |
|
18 |
Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]
[1] | 1878 |
|
17 |
ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 1928 |
|
16 |
유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
[2] | 2067 |
|
15 |
안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
[1] | 2287 |
|
14 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
[2] | 2594 |
